Bekanntmachung von Richtlinien zur Fördermaßnahme „Effiziente Hochleistungs-Laserstrahlquellen (EffiLAS)“ im Rahmen des Programms „Photonik Forschung Deutschland”

Einreichungsfrist: 27.02.2015 - 15.05.2015

Bitte beachten Sie: dies ist nur ein Auszug. Die rechtlich geltende, komplette Bekanntmachung finden im Amtlichen Teil des Bundesanzeigers oder unter den Bekanntmachungen auf der Webseite des Bundesministeriums für Bildung und Forschung.

Die Lasertechnik ist heute unverzichtbarer Bestandteil vieler Kernbranchen der deutschen Wirtschaft, von der Produktionstechnik über den Automobilbau, die Medizintechnik, die Mess- und Umwelttechnik bis hin zur Informations- und Kommunikationstechnik. Um Deutschlands technologische und wirtschaftliche Führungsposition in der Photonik auch langfristig zu sichern und weiter auszubauen, müssen Strahlquellen, Optiken und Materialien mit den Anforderungen der Anwender Schritt halten. Dazu sind Innovationen sowohl hinsichtlich der Kosten- und Energieeffizienz als auch der Leistungsfähigkeit von Lasersystemen erforderlich.

Das BMBF will mit der Fördermaßnahme „Effiziente Hochleistungs-Laserstrahlquellen (EffiLAS)“ Unternehmen bei Forschung und Entwicklung für innovative Laserstrahlquellen und Komponenten mit großem Anwendungs- und Marktpotenzial unterstützen. Vor diesem Hintergrund hat das BMBF im Rahmen des Förderprogramms „Photonik Forschung Deutschland“ die vorliegende Förderinitiative „Effiziente Hochleistungs-Laserstrahlquellen (EffiLAS)“ erarbeitet. Die Fördermaßnahme ist Bestandteil der Hightech-Strategie der Bundesregierung.

Gegenstand der Förderung

Im Rahmen der zu fördernden Projekte sollen vorwettbewerbliche Arbeiten im Hinblick auf die Erforschung und Entwicklung innovativer, effizienter Laserstrahlquellen mit neuen oder erweiterten Funktionalitäten im Rahmen industriegeführter Verbundprojekte durchgeführt werden, die dazu führen, dass die Marktdurchdringung der Lasertechnik in bestehenden Applikationsfeldern gesteigert oder neue Einsatzgebiete erschlossen werden können.

Wesentliche Ziele sind eine Steigerung von Effizienz, Ausgangsleistung, Pulsenergie, Brillanz und Zuverlässigkeit, eine Reduktion von Kosten und Systemkomplexität sowie die Erschließung neuer Wellenlängenbereiche, die für Anwendungen in der Produktion, der Messtechnik oder den Umwelt- und Lebenswissenschaften relevant sind.

Die erarbeiteten Ergebnisse sollen die Grundlagen für neue, anwendungsrelevante Laserstrahlquellen für den kontinuierlichen oder den gepulsten Betrieb bis in den UKP-Bereich und deren industrielle und gesellschaftliche Nutzung und Anwendung in verschiedenen Bereichen bilden. Mögliche Konzepte für effiziente Strahlquellen sind z. B. innovative Dioden- und Mikrochiplaser oder diodengepumpte Festkörperlaser (DPSSL), Scheiben- und Faserlaser.

Mögliche Themen sind u. a.:

  • Diodenlaser mit hoher Ausgangsleistung bei guter Strahlqualität zur direkten Anwendung z. B. in der Produktionstechnik; Frequenzkonversion von Diodenlasern
  • Konzepte zur Steigerung von Lebensdauer und Zuverlässigkeit von Diodenlasern
    Hochleistungs-InGaN-Diodenlaser für die Materialbearbeitung
  • Effiziente Hochleistungs-Lasersysteme und Optik-Komponenten im UV/VUV‐Bereich
  • Effiziente Lasersysteme und kohärente Quellen mit Emissionen im MIR (1.5 – 5.0 μm) für Anwendung in der Produktionstechnik, Umwelttechnik und den Lebenswissenschaften (sowohl direkt als auch via Frequenzkonversion)
  • Hybride Laser- und Optikkonzepte, z. B. für das dichte Multiplexen und Verstärken von Laserstrahlung bei höheren Ausgangsleistungen, insbesondere Halbleiter- und Faserstrukturen für ein größeres Modenvolumen und Konzepte zur spektralen Kontrolle
  • Hochbrillante Strahlquellen mit einer großen Zahl einzeln ansteuerbarer Kanäle, hoher Integrierbarkeit, Kompaktheit und Stabilität; Multistrahlsysteme mit individueller Strahlformung und -ablenkung, sowie kohärenter und inkohärenter Überlagerung zur Leistungsskalierung
  • Integrierte Wafer-Technologie (optische, elektro-optische oder elektrische Funktionen), beispielsweise für effiziente Laserstrahlquellen bis in den kW-Bereich oder kostengünstige Laser für Konsumanwendungen
  • Hoch performante, kostengünstige und kompakte Strahlquellen beispielsweise für den Einsatz in der 3D-Sensorik
  • Modulare Strahlquellenkonzepte zur Steigerung der Wartungsfreundlichkeit und Reduktion der Ausfallzeiten durch schnelle Austauschbarkeit kritischer Komponenten
  • Strahlquellen mit einstellbaren/adaptiven Strahlprofilen
  • Faserbasierte Strahlführungssysteme für UV- und UKP-Lasersysteme
  • Miniaturisierung und Systemintegration durch hybride und monolithische Lösungen, z. B. Ersetzen diskreter Optik durch Planar- und Faseroptik, Integration zusätzlicher Funktionalitäten
  • Automatisierbare Aufbau- und Verbindungstechniken für Hochleistungslaser und -systeme sowie batchbasierte Fertigungstechnologien, die z. B. den besonderen Anforderungen an die Stabilität und an eine Kontrolle des Wärmeflusses gerecht werden oder eine hochpräzise Positionierbarkeit und Befestigung zulassen
  • Neue Konzepte für die Wärmeabfuhr (insbesondere auch für hoch integrierte Systeme) auf der Basis innovativer Materialien mit minimierten thermischen Ausdehnungskoeffizienten oder hoher Wärmeleitfähigkeit sowie geeigneter Fügetechnologien

Die Auflistung der Verfahren, Stichworte und Branchen ist beispielhaft und nicht als vollständig anzusehen. Die vorgeschlagenen Lösungsansätze sollen prinzipiell für eine künftige wirtschaftliche Serienfertigung geeignet sein. Die Funktionsfähigkeit praktikabler Konzepte ist durch Demonstratoren nachzuweisen.

Förderfähig sind grundlegende, anwendungsorientierte Forschungsarbeiten des vorwettbewerblichen Bereichs, die durch ein hohes wissenschaftlich-technisches Risiko gekennzeichnet sind.

Zuwendungsempfänger

Die Förderung zielt ab auf FuE-Verbundprojekte, die von Unternehmen initiiert und koordiniert werden. Die Vorhaben sollen entlang der Wertschöpfungskette strukturiert sein. Antragsberechtigt sind Unternehmen der gewerblichen Wirtschaft, die zum Zeitpunkt der Zuwendungsbewilligung eine Betriebsstätte oder Niederlassung in Deutschland haben, Hochschulen und außeruniversitäre Forschungseinrichtungen. Forschungseinrichtungen, die gemeinsam von Bund und Ländern grundfinanziert werden, kann nur unter bestimmten Voraussetzungen eine Projektförderung bewilligt werden.

Die Beteiligung kleiner und mittlerer Unternehmen ist ausdrücklich erwünscht und wird bei der Projektbegutachtung berücksichtigt. Die Förderung von Einzelvorhaben sowie von Verbundvorhaben allein zwischen wissenschaftlichen Partnern ist nicht beabsichtigt.

Förderverfahren

Das Förderverfahren ist zweistufig.

In der ersten Stufe sind zunächst bei dem Projektträger VDI Technologiezentrum GmbH unter der u.a. Anschrift Projektskizzen einzureichen. Die Verbundpartner reichen dabei, vertreten durch den Koordinator, eine gemeinsame, begutachtungsfähige Projektskizze im Umfang von maximal 15 DIN A4-Seiten (ohne Deckblatt und die beiden Tabellenanlagen, Schriftgrad 12) beim Projektträger ein.

Eine kommentierte Mustergliederung zur Erstellung der Skizzen sowie die Anlagen Anlage1_Verbundpartner.xlsx und Anlage2_Finanzen.xls finden Sie in unserem Formularschrank. Das VDI Technologiezentrum ist außerdem Ansprechpartner für alle Fragen zur Abwicklung der Bekanntmachung.

Vordrucke für Förderanträge, Richtlinien, Merkblätter, Hinweise und Nebenbestimmungen können auch unter der Internetadresse https://foerderportal.bund.de/easy/easy_index.php?auswahl=easy_formulare&formularschrank=bmbf abgerufen werden.

Die Vorlagefrist endet am 15.05.2015.

Die eingegangenen Projektskizzen werden nach folgenden Kriterien bewertet:

  • Fachlicher Bezug zur Förderbekanntmachung
  • Risiken und Innovationshöhe des wissenschaftlich-technischen Konzeptes
  • Qualität und Belastbarkeit des Verwertungskonzepts
  • Technische, wirtschaftliche und gesellschaftliche Bedeutung
  • Qualität des Projektkonsortiums, Abdeckung der Wertschöpfungskette
  • Einbeziehung von KMU

In der zweiten Verfahrensstufe werden die Interessenten bei positiv bewerteter Projektskizze aufgefordert, in Abstimmung mit dem vorgesehenen Verbundkoordinator einen förmlichen Förderantrag vorzulegen, über den nach abschließender Prüfung entschieden wird. Zur Erstellung förmlicher Förderanträge nutzen Sie bitte das Portal "easy-Online" https://foerderportal.bund.de/easyonline

Genauere Informationen wie beispielsweise Art und Umfang, Höhe der Zuwendung oder die Gliederung der Projektskizze entnehmen Sie bitte Bekanntmachung im Bundesanzeiger oder der Bekanntmachung auf der Webseite des Bundesministeriums für Bildung und Forschung.

Kontakt / Ansprechpartner

VDI Technologiezentrum GmbH
- Projektträger Photonik, Optische Technologien -
VDI-Platz 1
40468 Düsseldorf

Dr. Nikolas Knake
Tel.: 02 11 / 62 14 - 570
Fax: 02 11 / 62 14 - 159
E-Mail: knake@vdi.de

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